Sensores Integrados em Silício IE012 SensoresTérmicos I · Sensores modulantes resistivos • RTD...

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1 IE 012 Sensores Integrados em Silício IE012 SensoresTérmicos I Professor Fabiano Fruett UNICAMP – FEEC - DSIF Sala 207 www.dsif.fee.unicamp.br/~fabiano 2 IE 012 Temperatura é a variável mais medida Energia térmica: Energia de vibração das moléculas

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    Sensores Integrados em Silício IE012

    SensoresTérmicos IProfessor Fabiano Fruett

    UNICAMP – FEEC - DSIFSala 207

    www.dsif.fee.unicamp.br/~fabiano

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    Temperatura é a variável mais medida

    Energia térmica: Energia de vibração das moléculas

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    Escalas de temperatura( ) ( ) ( )F 32 CK 273,15

    5 9 5T TT −−

    = =

    Temperatura Pontos de calibração K °F °C

    Energia térmica zero 0 -459,6 -273,15 Água sólido/liquido 273,15 32 0

    Água líquido/gás 373,15 212 100

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    De um modo geral os sensores de temperatura podem ser divididos em:

    • Passivos (Auto-suficientes)– Termopares (efeito termoelétrico)

    • Ativos (Modulantes)– “Termo”resistores, – “Termo”diodos e– “Termo”transistores

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    sendo que αAB o coeficiente de Seebeckrelativo entre os materiais A e B, expresso em V/K.

    Termopares – Efeito Seebeck

    TV AB∆=∆ α

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    Alguns efeitos relacionados ao gradiente de temperatura em uma barra de metal ou material semicondutor

    • Mudança no bandgap• Mudança na concentração dos portadores

    de carga• Mudança no nível de Fermi• Mudança no coeficiente de difusão

    (mobilidade)• Termo difusão• Acúmulo de cargas

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    Magnitude do efeito Seebeck

    Fonte: D.E. Gray (ed.), American Institute of Physics Handbook, McGraw-Hill, New York, 1982, 4.7-4.9

    ∆V de alguns materiais combinados com platina, T1=0 °C e T2=100 °C

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    Termopares padrão

    Tipo Material positivo Material negativo E Cromel Cosntantan J Ferro Cosntantan K Cromel Alumel S Platina 10% Ródio Platina T Cobre Cosntantan

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    Não linearidade

    Fonte: National semiconductors

    20 1 2 ...

    nnT a a V a V a V∆ = + ∆ + ∆ + + ∆

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    Efeito Seebeck em materiais diferentes

    Fonte: W.R. Beam, Electronics of solids, Kogakusha Co Ltd, Tokyo, 1965

    α é o coeficiente de Seebeckk é a condutividade elétricakT é a condutividade térmicaN é a densidade de portadores

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    Coeficiente de Seebeck no Si a temperatura ambiente

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    Efeito Seebeck em circuitos integrados

    A tensão termodinâmica devido as junções Si-Al, depende do nível de dopagem do silício, podendo chegar a 1.4 mV/K.

    Fonte: G.C.M. Meijer, Ph.D. Thesis, TU Delft 1982

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    Termopilhas

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    Sensores modulantes resistivos

    • RTD (Detector de Temperatura Resistivo)– Fabricados em platina, níquel ou níquel-cobre– Tecnologia de deposição de filmes em substrato

    de alumina ou cerâmico

    • Termistor (Resistor Térmicamente Sensível)– Material semicondutor

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    RTD (Resistance-temperature detector)

    O exemplo mais comum é o tipo PT 100, que tem uma resistência de 100 Ω a 0°C.

    Rt = R0[1 + At + Bt2 +C(t-100) t3] Sendo que R0=100 Ω (para t0=100°C)

    A = 3.9083 E-3B = -5.775 E-7C = (abaixo de 0°C) -4.183 E -12

    (Acima de 0°C) zero

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    RTD (Resistance-temperature detector)Efeito dos fios de ligação:

    RTD High Impedance VoltmeterRTD OHMMETER

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    Sensores modulantes integrados

    - Variação da resistência em semicondutores (termistor)- Variação da tensão de polarização direta em diodos- Variação da tensão base-emissor em transistores bipolares

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    Efeito térmico no semicondutor

    Para um semicondutor intrínseco, a resistividade pode ser expressa pela seguinte equação:

    sendo que: ni é a concentração de portadores intrínsecosµn e µp são as mobilidades dos elétrons e lacunas respectivamente.

    ( )pni qn µµρ +=1

    ni(T), µn(T) e µp(T)

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    Faixa de interesse

    Silício extrínseco tipo nni(T)µn(T)( )DN T

    +Efeitos

    dominantes:

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    Resistor integrado

    Rt = R0[1 + A(t-t0)+ B (t-t0)2]

    Sendo que:

    R0 é a resistência a 0°C

    A e B são variáveis medidas empiricamente

    Difusão ou implantação p+

    Camada enterrada

    Epitaxia tipo n

    Substrato tipo pIsolação

    Contato (n+) do resistor

    Processo Bipolar

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    Limitações tecnológicas

    • Valores absolutos apresentam precisão de ±20%, mas a razão de casamento entre duas resistências é±0.1%. Dessa forma os resistores são empregados em forma de ponte.

    • Devem ser polarizados convenientemente, mantendo as junções p-n reversamentepolarizadas.

    • A variação térmica de um resistor semicondutor éfortemente dependente da queda de tensão, e do estresse mecânico

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    Alguns exemplos de resistores integrados

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    TCR versus resistividade de um processo bipolar

    1

    10

    100

    1000

    10000

    N-we

    ll+Nt

    ub+B

    LN N+ P+

    P-ba

    se

    Ω/s

    qr

    00,0010,0020,0030,0040,0050,0060,0070,008

    TCR

    [K-1

    ]

    W/sqrTCRΩ/

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    Resistividade em função da temperatura para níveis de dopagens diferentes

    102

    10

    10-1

    10-2

    10-3

    1014

    1019

    1

    1015

    1016

    1017

    1018

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    Outras opções de resistores integrados

    • Polisilício

    • Filmes finos

    Possuem melhor isolação devido a ausência da junção p-n.

    Necessitam de uma camada extra de deposição.

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    Polisilício

    • Estrutura formada por pequenos cristais com distribuição aleatória, podendo ter um certo número de orientações dominantes.

    • Suas características (resistividade, TCR e piezo constantes) são fortemente dependentes do processo de deposição e dopagem.

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    Parâmetros de um processo industrial CMOS 1.2 um

    Difusão n+ Difusão p+ Poly High res. Poly Metal Resistência [Ω/sqr] 25 44 27 2700 0.070 TCR [×10-3 K-1] 1.9 1.9 0.7 -3.3 2.8

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    Diodos

    Comportamento quase linear a partir de 20 K

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    Componentes da corrente para um diodo em polarização direta:

    • Corrente de difusão• Corrente de leakage de superfície causada pela

    recombinação de portadores na superfície• Componente devido a recombinação na região

    de depleção, (corrente de geração-recombinação)

    As duas últimas, dependem fortemente do processo de fabricação e da geometria do diodo.

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    Transistores

    A corrente de emissor de um transistor também écomposta pelas componentes de difusão, leakage de superfície e recombinação.

    A corrente de coletor é principalmente constituída pela componente de difusão. Devido a base estreita, as duas outras componentes da corrente de emissor são drenadas para fora pela corrente de base.

    Dessa forma, o uso do transistor como sensor de temperatura é normalmente baseado na sua bem definida característica IC vs. VBE.

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    Característica IC vs.VBE de um transistor bipolar

    IC é a corrente de coletorVT a tensão termodinâmica = kBT/qkB é a constante de Boltzmann, kB=1,38062 × 10-23 [J/K]T a temperatura em Kelvinq a carga do elétron 1.60 × 10-19 [C]portanto VT @ temperatura ambiente = 25 mVIS corrente de saturação reversa

    T

    BE

    T

    BE

    VV

    SVV

    SC eIeII ≅

    −= 1

    Fonte; Sedra & Smith, Microelectronics

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    Corrente de saturação reversa IS

    B

    BEiS Q

    DAnqI

    222

    =

    Bn n

    k TDq

    µ=

    ( )∫=C

    E

    X

    XxEB dxpqAQ

    ( )dxxNqAQBW

    AEB ∫≅0

    0

    ( ) BAW

    A WNdxxNB

    =∫0

    BA

    niES WN

    DnqAI

    2

    =

    Simplificando:

    Fonte; Sedra & Smith, Microelectronics

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    Efeito da temperatura em IS

    ( )2 3 exp /i g Bn T qV k T∝ − ( )/n B nD k T q µ=

    nn T

    −∝µTVV gg α−= 0

    O problema situa-se em modelar a dependência de IS com a temperatura

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    Método sugerido por Meijer:Dependência da temperatura em IC(VBE)

    ( )0exp BE gCB

    q V VI CT

    k Tη

    −=

    Valores empíricos obtidos por Meijer são: Vg0=1166 mV e η=3.72

    Ref: G.C.M.Meijer and K. Vingerling, IEEE JSSC, vol. Sc15, n2, April 1980

    sendo que:Vg0 é a tensão de bandgap extrapolada a 0 KC é uma constante dependente do processo η é uma constante relacionada a dependência da mobilidade dos portadores minoritários com a temperatura na região de base

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    Aplicando o resultado anterior e considerando uma temperatura arbitrária T e uma temperatura de referência

    especifica Tr, tem-se:

    ( ) ( ) ( )( )01 ln ln CB BBE g BE r

    r r r C r

    I Tk T k TT T TV T V V TT T q T q I T

    η

    = − + − +

    mC TI ∝

    ( ) ( ) ( )0 1 lnBBE g BE rr r r

    k TT T TV T V V T mT T q T

    η

    = − + − −

    Normalmente IC é proporcional a temperatura.:

    Fazendo m=1 (diretamente proporcional), tem-se:

    Ref: G.C.M.Meijer and K. Vingerling, IEEE JSSC, vol. Sc15, n2, April 1980

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    VBE versus temperatura

    Vg0

    [V]

    T [K]

    VBE

    Tr

    ( ) ( ) ( )0 lnB r BBE g rr

    k T k TV T V m T m T T Tq q T

    η λ η

    = + − − + − − −

    ( ) ( )0 B rg BE r

    r

    k TV m V Tq

    T

    ηλ

    + − −=

    Ref: G.C.M.Meijer and K. Vingerling, IEEE JSSC, vol. Sc15, n2, April 1980

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    Termo não linear

    -4

    -3.5

    -3

    -2.5

    -2

    -1.5

    -1

    -0.5

    0

    -50 0 50 100 150

    Temperature [ oC]

    VBE,NL(T)

    [m

    V]

    T r=50oC=323 K

    η -m B=3

    η-m=3.72

    Exemplo considerando:0 1166 mVgV = 0m =( ) 630 mVBE rV T =3.72η = 323 KrT =

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    Sistema sensor de temperatura usando um único transistor como elemento sensor

    Ic

    Vref

    Vbe

    A / DConverter

    Micro - Processor Display

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    Comparação Propriedade Resistor PT Termistor Termopar TransistorFormato da Saída

    Resistência Resistência Tensão Tensão

    Faixa de Operação (ºC)

    Grande-260 a +1000

    Média-80 a +180

    Muito grande-270 a +3500

    Média-50 a +180

    Sensibilidade Média 0,4% / K

    Alta 5% / K Baixa 0,05 a 1mV / K

    Alta ~2mV / K

    Linearidade Muito Boa < ±0,1K

    Muito Não-Linear

    Boa ±1K Boa ± 1K

    Exatidão:- Absoluta Alta em

    ampla faixaAlta em estreita faixa

    Não é possível

    Média

    - Diferencial Média Média Alta MédiaCusto para Adequação em CI

    Médio - Não é um processo padrão

    Baixo - Não é um processo padrão

    MédiaSim

    Muito BaixoSim, muito facilmente